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32 nm工艺下基于输入分离C单元的三节点翻转容忍锁存器设计-现代信息科技2024年09期

32 nm工艺下基于输入分离C单元的三节点翻转容忍锁存器设计

作者:夏宇 字体:      

摘  要:随着集成电路特征尺寸的不断缩减,存储电路中单粒子效应造成的多节点翻转的概率越来越大,严重影响了电路的可靠性。因此,为了增加存储电路的抗辐射加固能力和可靠性,提出一种三节点翻转加固锁存器TNU(试读)...

现代信息科技

2024年第09期