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短沟道效应出现时InAlN/GaN HEMTs的内部电子分布-科技风2025年11期

短沟道效应出现时InAlN/GaN HEMTs的内部电子分布

作者:韩铁成 彭晓灿 字体:      

摘 要:凭借二维器件仿真,从器件内部电子分布角度,直观且系统地展示了InAlN/GaN高电子迁移率晶体管直流特性上短沟道效应的发生。结果显示栅长(LG)缩短会减小栅极对栅下的电导率调控范围,同时由VDS产生的源(试读)...

科技风

2025年第11期